科晶500W直流等離子磁控濺射鍍膜儀

型號：VTC-2DC2英寸

產品概述：

VTC-2DC是一款小型的直流（DC）等離子體磁控濺射鍍膜儀系統(tǒng)，系統(tǒng)中包含了所有所需的配件，如500W（600V）的DC電源、2英寸的磁控濺射頭、石英真空腔體、真空泵和溫度控制器等。對于制作一些金屬薄膜，它是一款物美價廉的實驗手。

主要參數：

• 輸入電源：220V AC 50Hz    
• 輸出電壓：600 VDC 
• 輸出功率：大500W 
• 整機功率：1000W（包括真空泵）

濺射腔體：

• 采用石英腔體，尺寸：166mm OD x 150mm ID x250mm H（配置直靶頭）
• 尺寸：166mm OD x 150mm ID x290mm H（配置帶角度傾斜靶頭） 
• 密封法蘭:直徑為165mm，采用金屬制作，密封采用O形密封圈

濺射頭&樣品臺：

• 濺射頭安裝靶材直徑為2英寸，同時可選配1英寸濺射頭
• 儀器中安裝有直徑為50mm的不銹鋼樣品臺，其與濺射頭之間距離可調 
• 樣品臺可加熱，加熱溫度RT-500℃（RT為室溫） 
• 安裝有一可手動操作的擋板 
• 大可制膜的直徑為:2英寸（標配2英寸，如果需要更大尺寸請與我們銷售聯(lián)系）

真空系統(tǒng)：

• 安裝有KF25真空接口 
• 數字真空壓力表（Pa） 
• 此系統(tǒng)運行需要Ar氣，并且氣瓶上安裝有減壓閥（設備中不包含） 
• 采用機械泵< 3.8E-2 Torr(參考值，詳情請點擊） 
• 采用渦旋分子泵< 3.8E-5 Torr(參考值，詳情請點擊） 
• 可在本公司選購各種真空泵

進氣：

• 設備上配1/4英寸進氣口方便連接氣瓶 
• 設備前面板上裝有一氣流調節(jié)旋鈕，方便調節(jié)氣流

靶材：

• 靶材尺寸要求：Φ50mm×(0.1-5)mm(厚度) 
• 可在本公司選購各種靶材

薄膜測厚儀（可選）：可在本公司選購薄膜測厚儀安裝在濺射儀上

產品外形尺寸：

540mm L x540 mm W x1100mm H

凈重：70 kg（不包括泵）

科晶500W直流等離子磁控濺射鍍膜儀

型號：VTC-2DC2英寸

質量認證：CE認證

• 使用提示：
  有時為了達到理想的薄膜厚度，可能需要多次濺射鍍膜 
• 為了得到較好的薄膜質量，必須通入高純氣體（建議> 5N） 
• 在濺射鍍膜前，確保濺射頭、靶材、基片和樣品臺的潔凈 
• 要達到薄膜與基底良好結合，請在濺射前清潔基材表面 
• 超聲波清洗（詳細參數點擊下面圖片）：（1）丙酮超聲（2）異丙醇超聲-去除油脂（3）吹氮氣干燥（4）真空烘箱除去水分。 
• 等離子清洗（詳細參數點擊下面圖片）：可表面粗糙化，可激活表面化學鍵，可祛除額外的污染物。 
• 制造一個薄的緩沖層（5納米左右）：如Gr，Ti，Mo，Ta，可以應用于改善金屬和合金的附著力。

警告：

• 注意：產品內部安裝有高壓元件，禁止私自拆裝，帶電移動機體。 
• 氣瓶上應安裝減壓閥（設備標配不包括），保證氣體的輸出壓力限制在0.02兆帕以下，以安全使用。 
• 濺射頭連接到高電壓。為了安全，操作者必須在關閉設備前裝樣和更換靶